半導(dǎo)體廢水由于半導(dǎo)體公司的最終產(chǎn)品不同，不同公司生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的廢水種類也不一樣，各公司對(duì)產(chǎn)生的廢水來源也會(huì)進(jìn)行不同分類，總體來說，半導(dǎo)體行業(yè)的廢水可以分為含氟廢水、含磷廢水、有機(jī)廢水、研磨廢水、氨氮廢水和酸堿廢水。

含氟廢水主要來源于自芯片制造過程的擴(kuò)散工序及化學(xué)機(jī)械研磨工序，再對(duì)硅片及相關(guān)器皿的清洗過程中也多次用到氫氟酸。對(duì)粘膜、上呼吸道、眼睛、皮膚組織有極強(qiáng)的破壞作用，污染物主要為氟離子，由于使用了大量的氫氟酸、氟化銨等試劑，污染物濃度較高，如氟、氨等，廢水一般呈強(qiáng)酸性。

含磷廢水主要來源于生產(chǎn)過程中的鋁刻蝕液。

有機(jī)廢水，由于生產(chǎn)工藝的不同，有機(jī)溶劑的使用量對(duì)于半導(dǎo)體行業(yè)而言具有很大的差距，但是作為清洗劑，有機(jī)溶劑仍然廣泛使用再制造封裝的各個(gè)環(huán)節(jié)上，部分溶劑則成為有機(jī)廢水排放，有機(jī)廢水主要來源于IPA溶劑、顯影液、ITO刻蝕液、酸洗塔酸堿廢水、酸洗塔有機(jī)廢水。

研磨廢水主要來源于晶圓切割拋光后的后續(xù)清晰制程，主要污染物為懸浮固體。

氨氮廢水主要來源于刻蝕過程中使用的氨水、氟化銨及用高純水清洗。

酸堿廢水主要來源于制造過程中的清洗工藝，純水系統(tǒng)中多介質(zhì)過濾器、活性炭過濾器的反沖洗水，混床再生后的清洗水，冷卻塔排水。

分析半導(dǎo)體廢水水質(zhì)成分后，再進(jìn)行相對(duì)的處理工藝，如含氟廢水主要采用化學(xué)沉淀+混凝沉淀法，而含磷廢水則可以采用化學(xué)沉淀法和生物法，有機(jī)廢水處理方法比較多，活性污泥法、生物膜法、MBR膜法，也可以用接觸氧化法進(jìn)行處理?？傮w來說，根據(jù)半導(dǎo)體廢水的水質(zhì)進(jìn)行處理，盡可能保證達(dá)到最佳穩(wěn)定效果，減少投入。